徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪具备方形样品室、一体化触摸控制界面等特点，便于用户操作和维护。

徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪是一款集喷金仪、喷碳仪、蒸镀仪功能于一身的多功能设备，专为SEM和TEM分析提供高质量、导电的金属或碳涂层。该系统通过配置不同的模式（如离子溅射、碳丝蒸发等），并在全自动化系统中实现了结果的可重复性。其技术参数包括石英晶体测量、行星旋转、辉光放电等选项，以及精确至0.1nm的膜厚控制功能。此外，该设备还具备方形样品室、一体化触摸控制界面等特点，便于用户操作和维护。

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。

徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪技术参数：

1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求

2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能

3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制

4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm

5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度

6、专业设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm

7、工作距离：30-100mm

8、溅射电流：≤150mA

9、极限真空度：≤7x10-3mbar

10、一体化触摸控制界面，操作简单